Технологии вакуумного напыления

Цели и задачи дисциплины

Развитие технологий получения тонкопленочных покрытий является определяющим фактором прогресса в полупроводниковой и оптической промышленности, в том числе в производстве чипов, устройств отображения информации, квантовой оптики, солнечной энергетике многих других областях. Специалистам в области электроники для успешной профессиональной деятельности необходимо иметь представление об основах и возможностях современных технологий нанесения тонкопленочных покрытий. Подавляющие большинство технологических процессов осаждения тонкопленочных покрытий осуществляется вакууме или разреженной атмосфере. Целью изучения дисциплины «Технологии вакуумного напыления» является овладение базовыми представлениями о технологии получения вакуума и основных технологических процессах осаждения тонкопленочных покрытий. Поставленная цель достигается решением следующих задач: 1) Изучение законов вакуумной техники принципов построения вакуумных систем 2) физических принципов основных технологических процессов осаждения покрытий, методов изучения свойств полученных покрытий.

Краткое содержание дисциплины

На изучение курса Технологии вакуумного напыления" отводится 72 часа учебного времени. По содержанию курс делится на два раздела - физика поверхностей и методы диагностики поверхностей. В технологии вакуумного напыления тонкопленочных покрытий в настоящее время накоплен огромный объем знаний, который невозможно освоить ни в каком курсе конечной длины, тем более что этот объем стремительно растет. Это составит базу для более глубокого изучения предмета, если к нему возникнет интерес или заставит необходимость

Компетенции обучающегося, формируемые в результате освоения дисциплины

Выпускник должен обладать:

ПК-1 Способен строить простейшие физические и математические модели приборов, схем, устройств и установок электроники и наноэлектроники различного функционального назначения, а также использовать стандартные программные средства их компьютерного моделирования